杭州某半导体器件IC芯片激光加工厂，晶圆激光加工时中有含硅、氟的特别工业工业废水，定制处置人数1200吨/日。工业工业废水化学成分较为复杂，所含微米级硅顆粒及氢佛酸，传统化处置方案不易于考核标准。 生活污水组成成分及來源 主要的空气有机废气 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 來源制作工艺 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP普通机械厂机械厂抛光处理废气（40%）、环保设备情况呢水（15%） 工作制作工艺程序 企业创新采用了"化学物质悠长岁月中+防化膜区分"枝术路径： 钙盐水解 ：加药氯化钙彻底清除氟化合物（导出CaF2水解） 二沉池反响 ：包覆水解酸化池剂实现了电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜挪作他用微细小粒 反侵入设备 ：脱盐率>98%，二手回产出率75% 挥发凝结 ：浓水段保持氟化物零进行排放 最后感觉 氟化物溶度：<8mg/L（不高于一个国家七级规定10mg/L） 硅含氧量：<5mg/L 水资原工业废水处理率：70%主要用于待圆形逆流式冷却塔皮肤补水 危险废弃物减轻：蒸发器碎渣量较传统性艺减掉60%